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  • 产品名称：STP-XA2703C 真空涡轮分子泵

  • 产品型号：STP-XA2703C
  • 产品厂商：涡轮分子泵及分子泵机组
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简单介绍：
STP-XA2703C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能，并提高气体的吞吐量。 此泵基于新的平台设计，提供功能以改善热管理，从而增强在严苛制程中的性能，提高大制程流能力，并减少腐蚀和沉积的影响。 其出色的性能既适用于温和的应用环境，也适用于严苛的环境，例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。
详情介绍：

概述

STP-XA2703C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能，并提高气体的吞吐量。 
此泵基于新的平台设计，提供功能以改善热管理，从而增强在严苛制程中的性能，提高大制程流能力，并减少腐蚀和沉积的影响。 
其出色的性能既适用于温和的应用环境，也适用于严苛的环境，例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。

应用

  • 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
  • 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
  • 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
  • 溅射
  • 离子注入源，射束线泵送端点站
  • MBE
  • 扩散
  • 光致抗蚀剂脱模
  • 晶体/晶膜生长
  • 晶片检查
  • 负载锁真空腔
  • 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
  • 高能物理：射束线、加速器
  • 放射线应用：融合系统、回旋

功能和优势

的转子设计  
  • 增强的 H2、N2 和 Ar 性能
  • 改进了在高真空到 2300 sccm 制程压力范围内的性能
  • 免维护
5 轴磁悬浮系统  
  • 无污染
  • 低振动
性转矩管理  
  • 获得的转矩减少机械装置
优化的温度管理系统  
  • 高温 TMS 能力
  • 低沉积
  • 内置冷却机械装置
  • 更高的气体吞吐量（加热和未加热）
  • 延长寿命
  • 可用于严苛制程
  
  • 符合 SEMI®，具有 CE 标记，列于 UL 中

数据

入口法兰 VG250
抽速
  N2 2650 ls-1
  H2 2050 ls-1
压缩比
  N2 >108
  H2 >6 x 103
极限压力 10-7 Pa
大允许前级压力 266 Pa
大允许气体流量
N2（水冷却） 2300 sccm

(3.8 Pam3s-1)
Ar（水冷却） 1900 sccm

(3.2 Pam3s-1)
额定速度 27500 rpm
启动时间 8 min
固定位置 任何方向
水冷却流量 3 lmin-1
水冷却温度 5-25 °C (41-77 °F)
压力 0.3 MPa
的吹扫气体流量 50 sccm (8.4 x 10-2 Pam3s-1)
输入电压 200 至 240 V 交流(± 10)
功耗 1.5 kVA
泵重量 75 kg (165 lb)
控制器重量 12 kg (26.4 lb)

沪公网安备 31011702004244号