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  • 产品名称：STPA2203C 真空涡轮分子泵

  • 产品型号：STPA2203C
  • 产品厂商：涡轮分子泵及分子泵机组
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简单介绍：
Edwards STPA2203C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。它使用的转子，可实现的性能，大的制程灵活性。全新的半机架控制器能够节省更多空间，而且采用直流驱动，无需电池即可运行。STPA2203C 已经由半导体和磁介质行业的大型刻蚀、离子注入和沉积设备制造商投入使用，并得到了。
详情介绍：

概述

Edwards STPA2203C 是为半导体应用而设计的涡轮分子泵。它使用的转子，可实现的性能，大的制程灵活性。全新的半机架控制器能够节省更多空间，而且采用直流驱动，无需电池即可运行。STPA2203C 已经由半导体和磁介质行业的大型刻蚀、离子注入和沉积设备制造商投入使用，并得到了。

应用

  • 金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）
  • 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
  • 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
  • 溅射
  • 离子注入源，射束线泵送端点站
  • MBE
  • 扩散
  • 光致抗蚀剂脱模
  • 晶体/晶膜生长
  • 晶片检查
  • 负载锁真空腔
  • 科学仪器：表面分析、质谱分析、电子显微镜
  • 高能物理：射束线、加速器
  • 放射线应用：融合系统、回旋

功能和优势

的转子设计  
  • 更高的气体吞吐量
  • 大的制程灵活性
5 轴磁悬浮系统  
  • 无污染
  • 少维护
防腐蚀  
  • 可用于严苛制程
  • 使用寿命延长
紧凑型设计  
  • 占地面积小
  • 半机架控制器
的控制器设计  
  • 自动调整
  • 自行诊断功能
  • 直流电机驱动
  • 无电池运行

数据

入口法兰 ISO250F
KF40
吹扫口 KF10
水冷却接头 PT1/4
抽速
  N2 2200 ls-1
  H2 1700 ls-1
压缩比
  N2 >108
  H2 >2.5 x 104
极限压力 10-6 Pa

(10-8 Torr)
允许的大前级压力 400 Pa

(3 Torr)
大氮气吞吐量 1500 sccm
额定速度 27000 rpm
启动时间 7 分钟
固定位置 任意
水冷却流量 2 lmin-1
水冷却温度 5-25 °C
压力 0.3 MPa
的吹扫气体流量 20 sccm
输入电压 200 至 240 (± 10) V 交流
功耗 1.5 kVA
泵重量 61 kg
控制器重量 12 kg

沪公网安备 31011702004244号