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产品名称:STP603 真空涡轮分子泵
产品型号:STP603
产品厂商:涡轮分子泵及分子泵机组
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简单介绍:
Edwards STP603 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
详情介绍:
概述
Edwards STP603 是的涡轮分子泵,可用于的半导体应用。Edwards 的转子可实现的性能,大的制程灵活性。这种泵已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了。
应用
金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
溅射
离子注入源,射束线泵送端点站
MBE
扩散
光致抗蚀剂脱模
晶体/晶膜生长
晶片检查
负载锁真空腔
科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
高能物理:射束线、加速器
放射线应用:融合系统、回旋
入口法兰
ISO160F
KF40
抽速
N
2
650 ls
-1
H
2
550 ls
-1
压缩比
N
2
>10
8
H
2
>10
5
加热时的极限压力(VG/ISO 法兰)
6.5 x 10
-6
Pa
(5 x 10
-8
Torr)
加热时的极限压力(ICF 法兰)
10
-7
Pa
(10
-9
Torr)
大连续压力
13 Pa (0.1 Torr)
额定速度
35000 rpm
启动时间
6 分钟
高入口法兰温度
120 °C
输入电压
100 至 120 (± 10) V 交流或
200 至 240 (± 10) V 交流
启动时的功耗
0.8 kVA
泵重量
31 kg
控制器重量
9 kg
沪公网安备 31011702004244号