产品详情
简单介绍：
Edwards 半导体真空泵已经过现场应用证明，可以按照高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率，同时大程度地减小占地面积、降低运行成本，实现了高的性和性能。
iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
详情介绍：
概述
Edwards 半导体真空泵已经过现场应用证明，可以按照高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率，同时大程度地减小占地面积、降低运行成本，实现了高的性和性能。
iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
应用
- 负载锁
- 输送
- 计量
- 平版印刷
- PVD 制程
- PVD 预清洁
- RTA
- 剥离/灰化
- 刻蚀
- 植入源
- HDP CVD
- RTP
- SACVD
- MCVD
- PECVD
- LPCVD
- ALD
有关任何特定应用条件下 iH 系统稳定性的建议，请与 Edwards 联系。
功能和优势
- 优化了设施消耗。
- 无需预防性维护。
- 悬臂轴和的异型转子便于颗粒的处理。
- 在节省电机功率的同时大程度提高了工作繁重的 CVD 应用条件下的稳定性。
- 耐腐蚀的制造材料允许泵送腐蚀性气体。
- 较高的工作温度为避免气体冷凝提供了充分的。
- 整体式轴杆无需使用电机联结器，而第五级泵消除了使用消音器的需要并消除了颗粒堆积，从而降低了总体占地面积。
数据
| 峰值速度 | 103 m3h-1 |
| 61 cfm | |
| 1717 l min-1 | |
| 极限真空 | 1 x 10-2 mbar |
| 7.5 x 10-3 Torr | |
| 1 Pa | |
| 典型轴封氮流量 | 4 slm |
| 进气口连接 | ISO63 |
| 连接 | NW40 |
| 15 psi 压降下典型冷却水流量 | 120 l h-1 |
| 2 l min-1 | |
| 重量 | 240 kg |
| 极限功率输入 | 2.7 kW |
| 电机额定功率 | 3.5 kW |
| 油容量 | 0.7 l |
数字均为无气镇时的典型值。
