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  • 产品名称:STPH301C 超高真空涡轮分子泵

  • 产品型号:STPH301C
  • 产品厂商:涡轮分子泵及分子泵机组
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简单介绍:
Edwards 的高性能 STPH301C 涡轮分子泵是为*严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的可靠性和上等的性能可以实现*大的制程灵活性。STPH301C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了认可。
详情介绍:

概述

Edwards 的高性能 STPH301C 涡轮分子泵是为*严苛的半导体应用而设计的。这种泵经过实践检验的可靠性和上等的性能可以实现*大的制程灵活性。STPH301C 已经由半导体和磁介质行业的大型设备制造商投入使用,并得到了认可。

应用

  • 金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)
  • 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀
  • 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
  • 溅射
  • 离子注入源,射束线泵送端点站
  • MBE
  • 扩散
  • 光致抗蚀剂脱模
  • 晶体/晶膜生长
  • 晶片检查
  • 负载锁真空腔 
  • 科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜
  • 高能物理:射束线、加速器
  • 放射线应用:融合系统、回旋

功能和优势

先进的转子技术  
  • 更高的气体吞吐量
  • *大的制程灵活性
  • 无油
  • 低振动
  • 高度可靠
  • 免维护
  • 可用于严苛制程
  • 使用寿命延长
先进的控制器设计  
  • 自动调整
  • 自行诊断功能
  • 直流电机驱动
  • 无电池运行
紧凑型设计  
  • 占地面积小
  • 半机架控制器
  • 5 轴磁悬浮系统
  • 无污染
  • 少维护
  • 任意方向操作

技术数据

入口法兰 ISO100K
出口 KF40
吹扫口 KF10
水冷却接头 PT1/4
抽速
  N2 300 ls-1
  H2 200 ls-1
压缩比
  N2 >108
  H2 103
加热时的极限压力 10-7 Pa

(10-9 Torr)
*大连续出口压力 660 Pa

(5 Torr)
*大氮气吞吐量 2500 sccm
额定速度 48000 rpm
启动时间 4 分钟
*高入口法兰温度 120 °C
输入电压 100 至 120 (± 10) V 交流或

200 至 240 (± 10) V 交流
功耗 0.6 kVA
泵重量 15 kg
控制器重量 9 kg

沪公网安备 31011702004244号